亞閾值區(qū)NMOS Vth隨溫度變化曲線仿真【cadence】
一、測(cè)試電路搭建
這里我使用的工藝是SIMC的0.18微米工藝庫(kù),電路如下圖:
其中NMOS的W/L設(shè)為6u/3u,可根據(jù)實(shí)際情況而定。文章來(lái)源:http://www.zghlxwxcb.cn/news/detail-523635.html
二、ADE_L仿真環(huán)境設(shè)置
Vds的初始值設(shè)定為80mV,Vgs的初始值設(shè)定為200mV,目的是保證NMOS工作于亞閾值區(qū)。
選擇使用dc分析,勾選Save DC Opearting point選項(xiàng)后,點(diǎn)擊OK。
點(diǎn)擊Tools,選擇parametric Analysis,掃描溫度變量temp,掃描方式隨意,點(diǎn)擊綠色運(yùn)行按鈕。
返回ADL_X界面,選擇Results Browser
在左上角選擇dcOpinfo,然后選擇NM1,在左下角雙擊Vth,即可得到Vthy隨溫度變化的曲線了(如右圖所示)。文章來(lái)源地址http://www.zghlxwxcb.cn/news/detail-523635.html
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