據(jù)悉中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司制造的5nm刻蝕機(jī)已完成量產(chǎn)準(zhǔn)備，下半年就將交付給臺(tái)積電投入使用，這是國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的又一個(gè)重大突破。
由于眾所周知的原因，當(dāng)下芯片制造方面對(duì)光刻機(jī)的關(guān)注度最高，但是由于種種原因，中國(guó)在獲取先進(jìn)光刻機(jī)方面面臨困難，中國(guó)的芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈并未因此而氣餒，反而通過(guò)它們的共同努力，在現(xiàn)有基礎(chǔ)上進(jìn)行點(diǎn)突破。
刻蝕機(jī)正是中國(guó)在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈中進(jìn)展最快的環(huán)節(jié)，其他環(huán)節(jié)如今才剛進(jìn)展到14nm，光刻機(jī)更是還在攻堅(jiān)28nm，而刻蝕機(jī)已完成7nm工藝，如今再進(jìn)一步到5nm工藝，刻蝕機(jī)可謂是中國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈最成功的技術(shù)創(chuàng)新。
其實(shí)刻蝕機(jī)與光刻機(jī)都是芯片制造中最重要的兩大環(huán)節(jié)之一，在芯片制造當(dāng)中，光刻機(jī)將芯片線路刻畫(huà)出來(lái)，刻蝕機(jī)則將光刻機(jī)刻畫(huà)的線路圖以物理或化學(xué)方法去掉硅片的多余部分，從而將晶片的線路凸顯出來(lái)。
據(jù)業(yè)界人士指出芯片制造中的光刻機(jī)成本占近三成，而刻蝕機(jī)的成本占20%-27%左右，可以說(shuō)刻蝕機(jī)是僅次于光刻機(jī)的重要芯片制造設(shè)備，由此可見(jiàn)中國(guó)取得刻蝕機(jī)的突破已是芯片制造的巨大進(jìn)步。
中國(guó)芯片制造各個(gè)行業(yè)如今都在極力依靠現(xiàn)有的基礎(chǔ)發(fā)展芯片制造，在芯片產(chǎn)能方面，當(dāng)前國(guó)產(chǎn)芯片制造主要基于14nm及更成熟工藝滿足國(guó)內(nèi)的需求，業(yè)界人士認(rèn)為14nm就能滿足國(guó)內(nèi)七成的需求。
由于當(dāng)下全球芯片市場(chǎng)進(jìn)行下行階段，企業(yè)對(duì)于成本的控制更加嚴(yán)格，以外地催熱28nm及更落后工藝，因?yàn)檫@些工藝更成熟、成本更低、可靠性更高，由此中國(guó)三大芯片代工廠反而成為受益者，2021年中國(guó)三大芯片代工廠的營(yíng)收增速居于第一，超過(guò)了臺(tái)積電。
眼見(jiàn)著成熟工藝得到芯片行業(yè)的青睞，擁有5nm等先進(jìn)工藝制程的臺(tái)積電如今又反過(guò)來(lái)擴(kuò)張28nm工藝產(chǎn)能，試圖與中國(guó)大陸的三大芯片制造企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)。但是對(duì)于芯片行業(yè)來(lái)說(shuō)，先進(jìn)工藝畢竟是未來(lái)，為此中國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)鏈仍然需要加快先進(jìn)工藝的發(fā)展。
中國(guó)在刻蝕機(jī)方面所取得的進(jìn)展，證明了芯片制造設(shè)備其實(shí)并非不可突破的技術(shù)，刻蝕機(jī)的快進(jìn)步將促使中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)鏈加速技術(shù)研發(fā)，可以預(yù)期中國(guó)的芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈遲早能打破當(dāng)下的桎梏，實(shí)現(xiàn)完全自主研發(fā)。
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面對(duì)著中國(guó)在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈方面的突破，擁有先進(jìn)光刻機(jī)的ASML已經(jīng)有點(diǎn)著急了，ASML的高管早就表示限制對(duì)中國(guó)出貨光刻機(jī)無(wú)助于全球芯片供應(yīng)鏈的良性發(fā)展，中國(guó)遲早能打破技術(shù)局限，而中國(guó)在刻蝕機(jī)方面的突破無(wú)疑印證了ASML的預(yù)測(cè)，而ASML也開(kāi)始加大對(duì)中國(guó)出貨光刻機(jī)的力度，希望在這個(gè)市場(chǎng)獲得更多的利益。文章來(lái)源地址http://www.zghlxwxcb.cn/news/detail-517607.html
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